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單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)的相關(guān)知識普及

更新時間：2024-03-12  |  點(diǎn)擊率：1544
　　單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)支持各種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對準(zhǔn)方式。此外，該系統(tǒng)還提供其他功能，包括鍵合對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速處理和重新加工，以滿足不斷變化的用戶需求，轉(zhuǎn)換時間不到幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念適合初學(xué)者到專家級各個階層用戶，非常適合大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用。

 

　　EVG單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)特征：

　　1、晶圓/基片尺寸從零碎片到200毫米/ 8英寸。

　　2、臺式或獨(dú)立式帶防振花崗巖臺面。

　　3、敏捷的處理和轉(zhuǎn)換重新加工。

　　4、分步流程指引。

　　5、遠(yuǎn)程技術(shù)支持。

　　6、頂部和底部對準(zhǔn)功能。

　　7、高精度對準(zhǔn)。

　　8、自動楔形補(bǔ)償序列。

　　9、電動的和程序控制的曝光間隙。

　　10、支持先進(jìn)的UV-LED技術(shù)。

　　11、小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求。

　　12、多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同語言）。