顯微鏡秒變光刻機(jī)!-- 顯微鏡LED曝光單元
電子顯微鏡和光刻機(jī),兩個(gè)看上去風(fēng)馬牛不相及的東西,是如何結(jié)合到一起的?我們向您介紹一款無掩膜顯微鏡LED曝光單元UTA-3A-53M,能令顯微鏡秒變光刻機(jī)!
該設(shè)備是一種具有高性價(jià)比的曝光裝置,其DLP固定在顯微鏡的三目鏡部分,而照相機(jī)則固定在目鏡部分??梢詫S贸绦虍a(chǎn)生的圖案投影并在顯微鏡下曝光在樣品上。
<特征>
• 顯微鏡LED曝光單元UTA系列是用于光刻的無掩模圖案投影曝光設(shè)備。
• 使用金屬顯微鏡和LED光源DLP投影儀,將分辨率為幾μm的任意圖案投影到涂有光刻膠的基板上進(jìn)行曝光。您可以在計(jì)算機(jī)上自由創(chuàng)建圖案。
• 與電子束光刻相比,它更便宜,更容易,因?yàn)榭梢栽诳諝庵性诟鞣N大小和形狀的分層材料單晶薄片上形成電極。 不需要制造昂貴的電極圖案掩模。
• 簡單易懂專用軟件,可以輕松創(chuàng)建圖案
• 通過物鏡倍率,可以從精細(xì)圖案到進(jìn)行大范圍的批量曝光
• 也可以安裝到現(xiàn)有的顯微鏡上(顯微鏡的規(guī)格另需確認(rèn))
曝光范圍:物鏡5X:約1.16×0.72mm / 物鏡100X:約60×35μm
通過標(biāo)配以下5種畫圖工具,畫任意圖案進(jìn)行曝光
直線 矩形 多邊形 圓 同心圓
或者通過讀取外部軟件畫好的圖案進(jìn)行曝光(分辨率1280*800,BMP格式,黑白)
<應(yīng)用>
? 薄膜FET的電極形成和空穴效應(yīng)測量樣品
? 從原石的石墨烯鉬中取出剝離的(?。┢糜谠u(píng)估石特性的電極形成
? 用于研發(fā)應(yīng)用的圖案形成
? 光器件,微流控,微電子
☆曝光前可以進(jìn)行測試投影(因?yàn)槭羌t光,不會(huì)感光)
☆用白光曝光(曝光時(shí)間可以設(shè)置)