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接近式光刻機(jī)的使用原理及性能指標(biāo)
2024-09-09

大家也許還不是非常的清楚,光刻機(jī)的種類有非常的多,其中的技術(shù)原理也不盡相同,下面就由我來給大家簡單介紹一下有關(guān)接近式光刻機(jī)的使用原理及性能指標(biāo)。接近式光刻機(jī)的使用原理:其實(shí)在我國對于接近式光刻機(jī),曝光時(shí)掩模壓在光刻膠的襯底晶片上,其主要優(yōu)點(diǎn)...

  • 2022-06-02

    膜厚測量儀是一款高精度、高重復(fù)性的機(jī)械接觸式精密測厚儀,可選配自動(dòng)進(jìn)樣機(jī),更加準(zhǔn)確、高效的進(jìn)行連續(xù)多點(diǎn)測量。測試原理:將預(yù)先處理好的薄型試樣的一面置于下測量面上,與下測量面平行且中心對齊的上測量面,以一定的壓力,落到薄型試樣的另一面上,同測量頭一體的傳感器自動(dòng)檢測出上下測量面之間的距離,即為薄型試樣的厚度。膜厚測量儀基礎(chǔ)應(yīng)用:紙——各種紙張、紙板、復(fù)合紙板等的厚度測定;薄膜、薄片——各種塑料薄膜、薄片、隔膜等的厚度測定;擴(kuò)展應(yīng)用:瓦楞紙板——瓦楞紙板的厚度測定;金屬片、硅片—...

  • 2022-05-24

    納米壓痕儀是一種準(zhǔn)確,靈活,使用方便的納米級機(jī)械測試儀器。它測量楊氏模量和硬度,包括從納米到毫米的六個(gè)數(shù)量級的形變測量。該系統(tǒng)還可以測量聚合物,凝膠和生物組織的復(fù)數(shù)模量以及薄金屬膜的蠕變響應(yīng)(應(yīng)變率靈敏度)。模塊化選項(xiàng)可適用于各種應(yīng)用:頻率特定測試,定量刮擦和磨損測試,集成的基于探頭的成像,高溫納米壓痕測試,擴(kuò)展負(fù)載容量高達(dá)10N和自定義測試。納米壓痕儀主要適用于測量納米尺度的硬度與彈性模量,測量結(jié)果通過載荷及壓入深度曲線計(jì)算得出,無需應(yīng)用顯微鏡觀測壓痕面積??杀挥糜谟袡C(jī)或無...

  • 2022-05-19

    白光干涉儀以白光干涉技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D建模算法等對器件表面進(jìn)行非接觸式掃描并建立表面3D圖像,通過系統(tǒng)軟件對器件表面3D圖像進(jìn)行數(shù)據(jù)處理與分析,并獲取反映器件表面質(zhì)量的2D、3D參數(shù),從而實(shí)現(xiàn)器件表面形貌3D測量的光學(xué)檢測儀器。白光干涉儀可測各類從超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等,提供依據(jù)ISO/ASME/EUR/GBT四大國內(nèi)外標(biāo)準(zhǔn)共計(jì)300余種2D、3D參數(shù)作為評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)。目前儀器可廣...

  • 2022-05-12

    接近式光刻機(jī)又名:曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是一種用于信息科學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)、能源科學(xué)技術(shù)、電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器。其工作方式是通過光的作用,將掩模版上的電路圖形投影到產(chǎn)品表面光刻膠上,然后顯影出圖形,最后經(jīng)過蝕刻、離子植入等制程定型形成有效的電路。工作原理:接近式光刻機(jī)通過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,不同光刻機(jī)的成像比例不同,有5:1,也有4:1。然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片...

  • 2022-04-29

    光學(xué)輪廓儀是一種雙LED光源的非接觸式光學(xué)儀器,對樣品基本上沒有損害。視樣品選擇不同測量模式。相移干涉模式(PSI)主要用于測量光滑表面粗糙度;垂直掃描干涉模式(VSI)則可以做高度、寬度、曲率半徑,粗糙度的計(jì)測等。光學(xué)輪廓儀的測試原理:白色光經(jīng)分光板發(fā)射出特定波長的光。這種特定波長的光在雙光束干涉物鏡中,經(jīng)過分光板被分成兩束光,一束光照射到參照物表面,另一束光照射樣品表面,這樣得到的兩束反射光在相機(jī)上成像。將樣品表面的凹凸不平引起的光程差所獲得的干涉條紋信息轉(zhuǎn)換成高度信息,...

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