當(dāng)前位置：首頁 > 技術(shù)文章
膜厚測量儀是一種廣泛應(yīng)用于科研、工業(yè)生產(chǎn)和質(zhì)量控制領(lǐng)域的精密儀器，其主要功能在于準(zhǔn)確測量薄膜、涂層或其他薄層材料的厚度。這種儀器在多個行業(yè)中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用，為產(chǎn)品的性能評估和質(zhì)量控制提供了有力支持。膜厚測量儀的工作原理基于多種物理現(xiàn)象...
掩模對準(zhǔn)光刻機系統(tǒng)，這是一個全新的、已經(jīng)被生產(chǎn)廠家驗證過的新型光刻曝光機以及晶圓對晶圓（W2W）接合曝光和測試系統(tǒng)，可滿足用戶對更高光刻精度的需求。業(yè)內(nèi)向更小結(jié)構(gòu)和更密集封裝生產(chǎn)轉(zhuǎn)型的趨勢帶來了眾多的新挑戰(zhàn)，如對更高精度的要求，因為這將嚴(yán)重影響設(shè)備的偏差律，并最終影響生產(chǎn)效率和增加成本。掩模對準(zhǔn)光刻機系統(tǒng)可較大提高對準(zhǔn)精度-范圍從1微米至0.1微米-從而為生產(chǎn)廠家在先進微電子、化和物半導(dǎo)體、硅基電功率、三維集成電路和納米等幾乎所有相關(guān)產(chǎn)業(yè)提供了解決方案。新一代掩模對準(zhǔn)光刻機系...
發(fā)光二極管照明是利用半導(dǎo)體的電致發(fā)光發(fā)展而來的固態(tài)照明技術(shù)。自1907年第一只發(fā)光二極管問世，到20世紀(jì)90年代，人們對LED的研究進展緩慢，期間使用GaAs和InP等第二代半導(dǎo)體材料為光源的LED僅應(yīng)用在光電探測及顯示領(lǐng)域。直到20世紀(jì)90年代中期，日本的中村修二發(fā)明了第一只超高亮度的GaN基LED，照明領(lǐng)域的大門才向LED打開。GaN作為繼第一代半導(dǎo)體材料Si，Ge和第二代半導(dǎo)體材料GaAs，InP等之后的第三代半導(dǎo)體材料，因其出色的光電性能獲得了關(guān)注和研究熱度。GaN是...
晶圓鍵合自動系統(tǒng)能接受4個以上的鍵合腔體，可配置整個的晶圓鍵合過程，包括陽極鍵合、熱壓鍵合、低溫等離子體鍵合以及尺寸達300毫米的晶圓鍵合。自動晶圓黏著鍵合技術(shù)確保堆疊式設(shè)備實現(xiàn)高產(chǎn)。晶圓鍵合自動系統(tǒng)是一種重要的加工技術(shù)，它使用一個中間層（典型的聚合體）來粘接兩個基層，被廣泛地運用在先進封裝中。該方法的主要優(yōu)勢在于實現(xiàn)低溫加工、使材料表面平整化和提高晶圓形貌的耐久性。在CMOS圖像傳感器的應(yīng)用方面，晶圓黏著鍵合技術(shù)會在圖像傳感器材料表面和晶圓的玻璃蓋片之間設(shè)置一層保護屏障。在...
近半個世紀(jì)以來，硅一直是世界科技繁榮的重點，芯片制造商幾乎都在壓榨它的生命。傳統(tǒng)上用于制造芯片的技術(shù)在2005年左右達到了極限。那時，芯片制造商將不得不尋求其它技術(shù)，將更多的晶體管塞到硅板上，而光刻機的出現(xiàn)很好幫助了芯片制造商解決這一煩惱，從而制造出更強大的芯片。下面就來詳細了解一下！光刻機必須把工程師繪制的電路板精確無誤的投到硅晶圓上，不允許有絲毫誤差，可見難度之高！將晶體管封裝到芯片上的傳統(tǒng)工藝被稱為“深紫外光刻”（DUV），這是一種類似攝影技術(shù)的技術(shù)，通過透鏡聚焦光線，...
紅外測厚儀對水含量、涂布量、薄膜和熱熔膠的厚度有著十分重要的意義，它擔(dān)負著傳遞目標(biāo)信息的作用，直接影響檢測水含量、涂布量、薄膜和熱熔膠等厚度的準(zhǔn)確度。今天，給大家講一下紅外測厚儀是怎么工作的？可應(yīng)用在哪些地方？一、典型應(yīng)用：測量水含量、涂布量、薄膜和熱熔膠的厚度。應(yīng)用在涂膠工序時，該設(shè)備可放置于涂膠池后、烘箱前，在線測量涂膠的厚度；應(yīng)用在造紙工序時，該設(shè)備可放置在烘箱后，在線測量干紙張的水含量。二、測量原理：利用紅外光穿透物質(zhì)時的吸收、反射、散射等效應(yīng)實現(xiàn)非接觸式測量薄膜類材...
